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C. Schimpf
Steckbrief
Hersteller: JEOL Ltd.
technische Spezifikationen:
- Feldemissionsgerät (bis 30 keV) garantiert hohe Auflösung bei hohem Strahlstrom
- laterale Auflösung > 1 nm (SE)
- bis zu 500 nA Strahlstrom für schnelle analytische Anwendungen
- Sekundärelektronendetektor zur Abbildung der Oberflächenbeschaffenheit
- Rückstreuelektronendetektor (BSD) für ordnungszahl- und kristallorientierungssensitive Abbildung
- In-Column Sekundärelektronendetektor mit Energiefilter
- Kristalldefektabbildung mittels ECCI (BSD)
- lokale chemische Analytik für Elemente schwerer als Kohlenstoff mittels EDX (Octane - EDAX)
- lokale Kristallorientierungsanalyse mittels EBSD (Hikari - EDAX)
typische Anwendungen:
- Abbildung des Werkstoffgefüges auf Mikrometerskala
- Identifikation von Einschlüssen und Verunreinigungen
- Lokale chemische Analyse
- Lokale Phasenanalyse
- Kristallorientierungs- und Texturanalyse