ICP-Spektrometer 5100 VDV

M. Wendler

Technische Spezifikationen

Hersteller:	Agilent Technologies Inc.
Technische Daten:	simultanes optisches ICP-Emissionsspektrometer HF-Halbleitergenerator, stehende Plasmafackel Dual View: axiale und radiale Plasmabetrachtung für niedrige Nachweisgrenzen und breite Konzentrationsbereiche der zu analysierenden Elemente Echelle-Optik ohne bewegte Teile, CCD-Detektor mit Peltier-Kühlung HF-resistentes Probenzuführungskit Autosampler für hohen Probendurchsatz Softwaretools zur automatischen Untergrund- und Interferenzkorrektur Kalibration mit handelsüblichen Standardlösungen zusätzlich schnelle Messung mit vorkalibrierter Übersichtsmethode möglich
typische Anwendungen:	quantitative Bestimmung von Legierungs-, Begleit- und Spurenelementen in Stählen nach vorherigem nasschemischen Aufschluss quantitative Analyse von Stahlpulvern quantitative Bestimmung von Legierungs-, Begleit- und Spurenelementen in anderen Metallen und in Nichtmetallen nach vorherigem nasschemischen Aufschluss

Dr.-Ing. Thilo Kreschel
Ledebur-Bau
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