Atomlagenabscheidungssystem (ALD)

Modell: Cambridge Nanotech Savannah S200

Bei der Atomlagenabscheidung (engl. ALD) handelt es sich um ein chemisches Verfahren zur Herstellung besonders dünner Schichten im ein- und zweistelligen Nanometerbereich. Beim Abscheideprozess werden nacheinander verschiedene chemische Vorstufen, sogenannte Präkursoren, in einem Reaktor zur Reaktion gebracht. Wesentliches Merkmal der ALD ist dabei, dass sich die gasförmigen Präkursoren immer einzeln im Reaktor befinden und ihre Reaktionen mit der Oberfläche selbstlimitierend sind. Dadurch entsteht bei jedem Prozessschritt nur eine sehr dünne Schicht aus einer einzelnen Moleküllage. Im darauf folgenden Schritt reagiert ein weiterer Präkursor mit dieser Moleküllage und bildet die gewünschte chemische Verbindung. Die ALD-Schichten können in Abhängigkeit von der Substrattemperatur entweder amorph oder kristallin abgeschieden werden.

Steckbrief

GerätenameAtomlagenabscheidungssystem (ALD)
LeistungsartSchichtenherstellung
InstitutExperimentelle Physik
FachbereichPhysikalische Geräte
HerstellerVeeco Instruments Inc.
Experte Prof. Dr. Dirk C. Meyer